Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma.
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2001 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP |
Texto Completo: | https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27092024-081301/ |
Resumo: | Neste trabalho fizemos um estudo sobre a influência do material de eletrodo em plasma de S\'F IND. 6\' e de argônio nos processos de corrosão de silício por plasma, utilizando como material de eletrodo estanho, cobre, alumínio e níquel. A técnica de espectroscopia de emissão mostrou que em plasma de argônio há grande variação nas intensidades dos espectros em função do material de eletrodo. O principal motivo para esta variação é uma alteração na distribuição de elétrons do plasma provocada pela ejeção de elétrons secundários do material de eletrodo. Esta alteração ocorre tanto na densidade quanto na energia dos elétrons, afetando os processos de excitação e ionização. Estas alterações foram também observadas com a técnica de sonda em plasma de argônio. Estas técnicas indicam que há uma variação elétrica e física no plasma que também afeta o processo de corrosão. No processo de corrosão de silício com S\'F IND. 6\' há variação na taxa de corrosão, rugosidade e perfil em função do eletrodo. O eletrodo de estanho apresentou maior taxa de corrosão seguido do eletrodo de alumínio (12% menor), níquel (27% menor) e cobre (40% menor). A rugosidade induzida foi maior para o eletrodo de níquel seguido do eletrodo de estanho, alumínio e cobre. O eletrodo de cobre foi o que apresentou maior anisotropia seguido do alumínio, estanho e níquel. Todas essas variações apresentadas no processo de corrosão devem as variações na ejeção de elétrons secundários e nas reações entre o gás de processo e o material de eletrodo onde se pode ter liberação ou consumo de flúor no sistema resultando em grandes alterações no plasma em função do material de eletrodo. |
id |
USP_6ced05b39d54957ed5464d71bad07b07 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:teses.usp.br:tde-27092024-081301 |
network_acronym_str |
USP |
network_name_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP |
repository_id_str |
2721 |
spelling |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma.Untitled in englishCorrosão por plasmaElétrons secundáriosPlasma corrosionSecondary electronsNeste trabalho fizemos um estudo sobre a influência do material de eletrodo em plasma de S\'F IND. 6\' e de argônio nos processos de corrosão de silício por plasma, utilizando como material de eletrodo estanho, cobre, alumínio e níquel. A técnica de espectroscopia de emissão mostrou que em plasma de argônio há grande variação nas intensidades dos espectros em função do material de eletrodo. O principal motivo para esta variação é uma alteração na distribuição de elétrons do plasma provocada pela ejeção de elétrons secundários do material de eletrodo. Esta alteração ocorre tanto na densidade quanto na energia dos elétrons, afetando os processos de excitação e ionização. Estas alterações foram também observadas com a técnica de sonda em plasma de argônio. Estas técnicas indicam que há uma variação elétrica e física no plasma que também afeta o processo de corrosão. No processo de corrosão de silício com S\'F IND. 6\' há variação na taxa de corrosão, rugosidade e perfil em função do eletrodo. O eletrodo de estanho apresentou maior taxa de corrosão seguido do eletrodo de alumínio (12% menor), níquel (27% menor) e cobre (40% menor). A rugosidade induzida foi maior para o eletrodo de níquel seguido do eletrodo de estanho, alumínio e cobre. O eletrodo de cobre foi o que apresentou maior anisotropia seguido do alumínio, estanho e níquel. Todas essas variações apresentadas no processo de corrosão devem as variações na ejeção de elétrons secundários e nas reações entre o gás de processo e o material de eletrodo onde se pode ter liberação ou consumo de flúor no sistema resultando em grandes alterações no plasma em função do material de eletrodo.In this work we study the influence of the electrode material on silicon plasma etching, using electrodes of aluminium, copper, tin and nickel. Through the technique of emission spectrocopy we see that the argon intensity for the different electrodes varies very much. We believe that this difference is caused by the fact that the secundary electron emission is dependent on the electrode material from one electrode to another. This dependence can cause changes in the density and energy of the electrons and will change the electron energy distibution function. In this way, the processes of excitation and ionization of argon will be different for each electrode material. The intensity of the argon spectrum using an electrode of aluminium was higher than for other electrodes. A compatible result was also obtained with the Langmuir Probe technique, where the average argon ion density was highest for the aluminium electrode. The etch rate of the silicon etching process in S\'F IND. 6\' also varied over a large range. The etch rate for the tin electrode was 12% higher than for aluminium electrode, 27% higher than for the nickel electrode and 40% higher than for the copper electrode. The roughness obtained for the nickel electrode was much higher than for the other (employed) electrodes; in order decreasing roughness: tin, copper and aluminium. The variations observed in the silicon etching processes are caused by variations in the secundary electron emission and by the different reaction of the gas (S\'F IND. 6\') with the electrode material, which cause consumption or liberation of fluor in the system.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPVerdonck, Patrick BernardRuas, Ronaldo2001-03-14info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27092024-081301/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2024-09-27T11:17:02Zoai:teses.usp.br:tde-27092024-081301Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212024-09-27T11:17:02Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false |
dc.title.none.fl_str_mv |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. Untitled in english |
title |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. |
spellingShingle |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. Ruas, Ronaldo Corrosão por plasma Elétrons secundários Plasma corrosion Secondary electrons |
title_short |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. |
title_full |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. |
title_fullStr |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. |
title_full_unstemmed |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. |
title_sort |
Influência do material de eletrodo nas características de processo de corrosão por plasma. |
author |
Ruas, Ronaldo |
author_facet |
Ruas, Ronaldo |
author_role |
author |
dc.contributor.none.fl_str_mv |
Verdonck, Patrick Bernard |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Ruas, Ronaldo |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Corrosão por plasma Elétrons secundários Plasma corrosion Secondary electrons |
topic |
Corrosão por plasma Elétrons secundários Plasma corrosion Secondary electrons |
description |
Neste trabalho fizemos um estudo sobre a influência do material de eletrodo em plasma de S\'F IND. 6\' e de argônio nos processos de corrosão de silício por plasma, utilizando como material de eletrodo estanho, cobre, alumínio e níquel. A técnica de espectroscopia de emissão mostrou que em plasma de argônio há grande variação nas intensidades dos espectros em função do material de eletrodo. O principal motivo para esta variação é uma alteração na distribuição de elétrons do plasma provocada pela ejeção de elétrons secundários do material de eletrodo. Esta alteração ocorre tanto na densidade quanto na energia dos elétrons, afetando os processos de excitação e ionização. Estas alterações foram também observadas com a técnica de sonda em plasma de argônio. Estas técnicas indicam que há uma variação elétrica e física no plasma que também afeta o processo de corrosão. No processo de corrosão de silício com S\'F IND. 6\' há variação na taxa de corrosão, rugosidade e perfil em função do eletrodo. O eletrodo de estanho apresentou maior taxa de corrosão seguido do eletrodo de alumínio (12% menor), níquel (27% menor) e cobre (40% menor). A rugosidade induzida foi maior para o eletrodo de níquel seguido do eletrodo de estanho, alumínio e cobre. O eletrodo de cobre foi o que apresentou maior anisotropia seguido do alumínio, estanho e níquel. Todas essas variações apresentadas no processo de corrosão devem as variações na ejeção de elétrons secundários e nas reações entre o gás de processo e o material de eletrodo onde se pode ter liberação ou consumo de flúor no sistema resultando em grandes alterações no plasma em função do material de eletrodo. |
publishDate |
2001 |
dc.date.none.fl_str_mv |
2001-03-14 |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27092024-081301/ |
url |
https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27092024-081301/ |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.relation.none.fl_str_mv |
|
dc.rights.driver.fl_str_mv |
Liberar o conteúdo para acesso público. info:eu-repo/semantics/openAccess |
rights_invalid_str_mv |
Liberar o conteúdo para acesso público. |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.coverage.none.fl_str_mv |
|
dc.publisher.none.fl_str_mv |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP |
publisher.none.fl_str_mv |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP instname:Universidade de São Paulo (USP) instacron:USP |
instname_str |
Universidade de São Paulo (USP) |
instacron_str |
USP |
institution |
USP |
reponame_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP |
collection |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP |
repository.name.fl_str_mv |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP) |
repository.mail.fl_str_mv |
virginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.br |
_version_ |
1815256539800272896 |