DEPOSIÇÃO QUÍMICA A VAPOR DE ÓXIDO DE SILÍCIO ASSISTIDA POR PLASMA DE ALTA DENSIDADE ACOPLADO INDUTIVAMENTE (ICP-CVD)

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Ani Sobral Torres
Data de Publicação: 2002
Tipo de documento: Dissertação
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
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