Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2001 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS |
Texto Completo: | http://hdl.handle.net/10183/1939 |
Resumo: | Neste trabalho, propomos uma modificação do modelo de reação-difusão (R. M. C. de Almeida et al., Physics Review B, 61, 19 (2000)) incluindo difusividade variável com o objetivo principal de predizer, ou no mínimo descrever melhor, o crescimento de oxido de Si no regime de filmes nos. Estudamos o modelo reação-difusão a coeficiente de difusão, D, fixo e D variável. Estudamos extensivamente o modelo reação-difusão com D fixo caracterizando seu comportamento geral, e resolvendo numericamente o modelo com D variável para um intervalo amplo de relações DSiO2=DSi. Ambos casos apresentam comportamento assintótico parabólico das cinéticas. Obtivemos as equações analíticas que regem o regime assintótico de tais casos. Ambos os modelos apresentam interface não abrupta. Comparações das cinéticas com o modelo linear-parabólico e com dados experimentais foram feitas, e também para as espessuras da interface. Contudo nenhum dos dois modelos de reação-difusãao, com D fixo e com D varáavel, podem explicar a região de filmes nos, que possui taxa de crescimento superior a taxa de crescimento da região assintótica. Porém, ao incluir taxa de reação variável dentro do modelo de reação-difusão com D variável, este aponta para uma solução do regime de filmes nos. |
id |
URGS_2f3d5719d02964f0b88a9100cba92615 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:www.lume.ufrgs.br:10183/1939 |
network_acronym_str |
URGS |
network_name_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS |
repository_id_str |
1853 |
spelling |
Portella Filho, Luiz FerreiraGoncalves, Sebastian2007-06-06T17:19:15Z2001http://hdl.handle.net/10183/1939000312459Neste trabalho, propomos uma modificação do modelo de reação-difusão (R. M. C. de Almeida et al., Physics Review B, 61, 19 (2000)) incluindo difusividade variável com o objetivo principal de predizer, ou no mínimo descrever melhor, o crescimento de oxido de Si no regime de filmes nos. Estudamos o modelo reação-difusão a coeficiente de difusão, D, fixo e D variável. Estudamos extensivamente o modelo reação-difusão com D fixo caracterizando seu comportamento geral, e resolvendo numericamente o modelo com D variável para um intervalo amplo de relações DSiO2=DSi. Ambos casos apresentam comportamento assintótico parabólico das cinéticas. Obtivemos as equações analíticas que regem o regime assintótico de tais casos. Ambos os modelos apresentam interface não abrupta. Comparações das cinéticas com o modelo linear-parabólico e com dados experimentais foram feitas, e também para as espessuras da interface. Contudo nenhum dos dois modelos de reação-difusãao, com D fixo e com D varáavel, podem explicar a região de filmes nos, que possui taxa de crescimento superior a taxa de crescimento da região assintótica. Porém, ao incluir taxa de reação variável dentro do modelo de reação-difusão com D variável, este aponta para uma solução do regime de filmes nos.application/pdfporSistemas de reação por difusãoSilícioOxidaçãoDifusãoCinéticaFilmes finosReação-difusão com difusividade variável para oxidação de silícioinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisUniversidade Federal do Rio Grande do SulInstituto de FísicaCurso de Pós-Graduação em FísicaPorto Alegre, BR-RS2001mestradoinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGSinstname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)instacron:UFRGSORIGINAL000312459.pdf000312459.pdfTexto completoapplication/pdf806649http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/1939/1/000312459.pdfac9241a22882e1cbda0ca030f1992a13MD51TEXT000312459.pdf.txt000312459.pdf.txtExtracted Texttext/plain89388http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/1939/2/000312459.pdf.txt00dace58ef583d42f6ce6283d7412b3dMD52THUMBNAIL000312459.pdf.jpg000312459.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1196http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/1939/3/000312459.pdf.jpg5817d9e25a89c93d1331a9b3c4fe7365MD5310183/19392022-02-22 05:08:08.677464oai:www.lume.ufrgs.br:10183/1939Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttps://lume.ufrgs.br/handle/10183/2PUBhttps://lume.ufrgs.br/oai/requestlume@ufrgs.br||lume@ufrgs.bropendoar:18532022-02-22T08:08:08Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)false |
dc.title.pt_BR.fl_str_mv |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
title |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
spellingShingle |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício Portella Filho, Luiz Ferreira Sistemas de reação por difusão Silício Oxidação Difusão Cinética Filmes finos |
title_short |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
title_full |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
title_fullStr |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
title_full_unstemmed |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
title_sort |
Reação-difusão com difusividade variável para oxidação de silício |
author |
Portella Filho, Luiz Ferreira |
author_facet |
Portella Filho, Luiz Ferreira |
author_role |
author |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Portella Filho, Luiz Ferreira |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Goncalves, Sebastian |
contributor_str_mv |
Goncalves, Sebastian |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Sistemas de reação por difusão Silício Oxidação Difusão Cinética Filmes finos |
topic |
Sistemas de reação por difusão Silício Oxidação Difusão Cinética Filmes finos |
description |
Neste trabalho, propomos uma modificação do modelo de reação-difusão (R. M. C. de Almeida et al., Physics Review B, 61, 19 (2000)) incluindo difusividade variável com o objetivo principal de predizer, ou no mínimo descrever melhor, o crescimento de oxido de Si no regime de filmes nos. Estudamos o modelo reação-difusão a coeficiente de difusão, D, fixo e D variável. Estudamos extensivamente o modelo reação-difusão com D fixo caracterizando seu comportamento geral, e resolvendo numericamente o modelo com D variável para um intervalo amplo de relações DSiO2=DSi. Ambos casos apresentam comportamento assintótico parabólico das cinéticas. Obtivemos as equações analíticas que regem o regime assintótico de tais casos. Ambos os modelos apresentam interface não abrupta. Comparações das cinéticas com o modelo linear-parabólico e com dados experimentais foram feitas, e também para as espessuras da interface. Contudo nenhum dos dois modelos de reação-difusãao, com D fixo e com D varáavel, podem explicar a região de filmes nos, que possui taxa de crescimento superior a taxa de crescimento da região assintótica. Porém, ao incluir taxa de reação variável dentro do modelo de reação-difusão com D variável, este aponta para uma solução do regime de filmes nos. |
publishDate |
2001 |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2001 |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2007-06-06T17:19:15Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
http://hdl.handle.net/10183/1939 |
dc.identifier.nrb.pt_BR.fl_str_mv |
000312459 |
url |
http://hdl.handle.net/10183/1939 |
identifier_str_mv |
000312459 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS instname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS) instacron:UFRGS |
instname_str |
Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS) |
instacron_str |
UFRGS |
institution |
UFRGS |
reponame_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS |
collection |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS |
bitstream.url.fl_str_mv |
http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/1939/1/000312459.pdf http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/1939/2/000312459.pdf.txt http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/1939/3/000312459.pdf.jpg |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
ac9241a22882e1cbda0ca030f1992a13 00dace58ef583d42f6ce6283d7412b3d 5817d9e25a89c93d1331a9b3c4fe7365 |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS) |
repository.mail.fl_str_mv |
lume@ufrgs.br||lume@ufrgs.br |
_version_ |
1810085008443965440 |