Corrosão de resistes por plasma para aplicação em litografia de multicamadas.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Mansano, Ronaldo Domingues
Data de Publicação: 1993
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14062022-090027/
Resumo: Neste trabalho é apresentado o desenvolvimento de um processo de litografia de três camadas, para ser utilizado nos processos de corrosão por plasma dos materiais usados em microeletrônica. Ao mesmo tempo é apresentado um estudo sobre as influências dos parâmetros do plasma nas taxas de corrosão, perfis e uniformidade de corrosão para os resistes utilizados (AZ 1350J e SELEXTILUX P100). É também apresentado um estudo sobre as etapas necessárias para a obtenção das camadas que compõem uma estrutura de três camadas. Os padrões obtidos na litografia de três camadas foram usados para a corrosão por plasma de um filme de 300 nm de espessura de alumínio em plasma de \'CL IND.4\' + N IND.2\' e de silício do substrato em plasma de \'SF IND.6\' + \'O IND.2\'. Os perfis obtidos para esses dois materiais foram bastante verticais, apresentando maior resistência ao plasma e mostrando a aplicabilidade desse método litográfico.
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